3-アミノ-5-メルカプト-1,2、4-トリアゾールを吸入した場合は、患者を新鮮な空気に移してください。皮膚に付着した場合は、汚染された衣服を脱ぎ、石鹸水と水で皮膚をよく洗ってください。不快に感じる場合は、医師の診察を受けてください。目に入った場合は、まぶたを離し、流水または生理食塩水で洗い流し、直ちに医師の診察を受けてください。飲み込んだ場合は、すぐにうがいをし、嘔吐を誘発せず、直ちに医師の診察を受けてください。

フォトレジスト洗浄液の調製に使用されます

一般的なLEDや半導体の製造工程では、一部の材料の表面にフォトレジストのマスクを形成し、露光後にパターンを転写します。必要なパターンを取得した後、次のプロセスの前に残留フォトレジストを剥離する必要があります。このプロセスでは、基板を腐食させることなく、不要なフォトレジストを完全に除去する必要があります。現在、フォトフォト洗浄液は、主に極性有機溶剤、強アルカリ、水等で構成されており、半導体チップを洗浄液に浸漬するか、半導体チップを洗浄液で洗浄することにより、半導体ウェーハ上のフォトリストを除去することができる。 。

非水性の低エッチング洗剤である新しいタイプのフォトレジスト洗浄液が開発されました。含まれるもの：アルコールアミン、3-アミノ-5-メルカプト-1,2,4-トリアゾールおよび共溶媒。この種のフォトレジスト洗浄液は、LEDや半導体のフォトレジストを除去するために使用できます。同時に、金属アルミニウムなどの基板への攻撃もありません。さらに、このシステムは耐水性が高く、操作ウィンドウが広がります。LEDや半導体チップの洗浄分野での応用が期待されています。